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硅技术的发展和未来\[法]P.希弗特[德]E.克瑞梅尔

作者:(法)希弗特,(德)克瑞梅尔 编著,屠海令 等译

出版社:冶金工业出版社

出版日期:2009年02月
内容简介
本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。
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